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品牌:Avantium
產(chǎn)地:荷蘭
型號:High Throughput DAC Systems
高通量DAC CO2吸附儀是一種小型化、平行性的吸附材料測試實(shí)驗(yàn)裝置。
使用Avantium的微流體分配技術(shù),可以在低流速下準(zhǔn)確有效地分配進(jìn)料,確保流速相等。
該裝置允許兩種氣流,分別表示為“進(jìn)料B”和“進(jìn)料A”,用于預(yù)處理、突破性實(shí)驗(yàn)或吸附材料再生。
“進(jìn)料B”是含增濕CO2的氣體。通過混合飽和和干燥的氣流,可獲得水分含量控制良好的氣流
“進(jìn)料A”是一種氣流,用于用增濕氮?dú)鈱ξ絼┻M(jìn)行預(yù)處理或用氮?dú)庠偕絼?/p>
在這種情況下,A和B流都使用Avantium微流控技術(shù)分成八個平行通道
特性
*快速吸附劑篩選
由于同時測試多個樣品,工藝優(yōu)化或吸附劑開發(fā)可縮短上市時間;
*試驗(yàn)條件下的靈活性
定制化設(shè)備,配置靈活,盡可能接近工藝條件;
*降低實(shí)驗(yàn)成本
使用小樣本,通過較小批次和進(jìn)料降低實(shí)驗(yàn)成本,典型樣本量在0.1–2.0 ml之間;
*可靠的結(jié)果
在相同試驗(yàn)條件下同時測試多個樣品;
柱溫控制柜參數(shù):
特性 | 規(guī)格 | 單\位 | 備注 |
柱運(yùn)行壓力 | 大氣壓 | - |
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柱操作溫度(運(yùn)行) | 10 – 30 | °C | 要求環(huán)境溫度為10 – 80 °C |
SD ≤0.5°C 在加熱區(qū)的柱間溫差 | |||
| 16 | cm | 等溫區(qū) |
柱操作溫度(預(yù)處理) | 高至 150 | °C | - |
| 16 | cm | 等溫區(qū) |
柱加熱結(jié)構(gòu) | 兩組每組四個柱 | - | 每組在獨(dú)立的溫度控制外殼中 |
平行柱數(shù)量 | 4,8,16 |
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催化劑體積 | 0.1-1.9 | ml |
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